沈阳市天兴科学技术研究所

    沈阳市天兴科学技术研究所是一所集科、工、贸一体化的高新技术研究所。该研究所技术力量雄厚，现有科技人员16名（其中高级工程师3名、硕士（工程师）2名、名牌大学本科生（工程师）6名），占职工总人数的45%。天兴研究所主要从事电子元件壳、座的电镀研究及化学镀镍液的研究开发。尤其在化学镀镍液的研究开发，化学镀生产线设计，化学镀实际生产中有丰富的经验。

   天兴研究所近年研制并推向市场的CA系列中/高磷，全光亮/半光亮化学镀镍液是一种综合性能优于同类外国产品的化学镀镍液，该产品一问世即在国内几大化学镀生产厂家得到广泛的使用，并取代了同类的进口化学镀镍液。天兴研究所独创化镀液“个性化”服务先例。对每个不同的用户根据用户具体的工艺水平、设备现状、产品特点等将化镀液进行调整，以使其在特定的用户处发挥最大的功效。该项服务获得了用户的一致好评！

    该化学镀镍液的性能如下：

• 含磷量7-12%（重量百分比），全光亮/半光亮。
• 使用寿命8-10个循环，镀速15-20微米/小时。
• 滚、挂镀均可，可于操作温度下补加。
• 工艺规范：a：保证镍含量为5-6克/升。b：pH范围4.8-5.1，温度范围84-91℃。c：装载比0.5-2平方分米/升，镀8-12小时后倒缸。d：每镀出1克/升镍，补CA203和CA204各式各11毫升。每次补加量不宜超过1升，宜少量多加。

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